2023 年至 2032 年光學圖案晶圓檢測設備 (OPWIE) 市場規模
光學圖案晶圓檢測設備（OPWIE）是一種用於半導體製造過程中檢測圖案晶圓缺陷的檢測設備。圖案化晶圓是經過處理以創建所需電路圖案的晶圓。圖案化晶圓中的缺陷可能會導致半導體故障，因此在製造過程的早期檢測到它們非常重要。 OPWIE 系統使用光學技術對圖案化晶圓進行成像並識別缺陷。最常見的 OPWIE 系統類型是明場系統，它使用白光源照亮晶圓並使用相機捕捉影像。其他類型的 OPWIE 系統包括暗場系統（使用暗場照明源來增強缺陷的對比度）和相襯系統（使用相襯照明源來提高影像的解析度）。
ID ： IL_1167 | 語言： 英文/日文/法文/德文 | 出版商： 白細胞介素 |
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