Tamaño del mercado de equipos de inspección de obleas con patrón óptico (OPWIE) de 2023 a 2032

El equipo de inspección de obleas con patrones ópticos (OPWIE) es un tipo de equipo de inspección utilizado en el proceso de fabricación de semiconductores para detectar defectos en obleas con patrones. Las obleas estampadas son obleas que se han procesado para crear el patrón de circuito deseado. Los defectos en las obleas estampadas pueden provocar un mal funcionamiento de los semiconductores, por lo que es importante detectarlos en las primeras etapas del proceso de fabricación. Los sistemas OPWIE utilizan técnicas ópticas para obtener imágenes de la oblea estampada e identificar defectos. El tipo más común de sistema OPWIE es el sistema de campo claro, que utiliza una fuente de luz blanca para iluminar la oblea y una cámara para capturar la imagen. Otros tipos de sistemas OPWIE incluyen sistemas de campo oscuro, que utilizan una fuente de iluminación de campo oscuro para mejorar el contraste de los defectos, y sistemas de contraste de fase, que utilizan una fuente de iluminación de contraste de fase para mejorar la resolución de la imagen.

IDENTIFICACIÓN : IL_1167 | Idiomas: En/Jp/Fr/De | Editor : IL | Formato :