Taille du marché des équipements d’inspection de plaquettes à motifs optiques (OPWIE) 2023 à 2032

L'équipement d'inspection optique des plaquettes à motifs (OPWIE) est un type d'équipement d'inspection utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs pour détecter les défauts des plaquettes à motifs. Les tranches à motifs sont des tranches qui ont été traitées pour créer le motif de circuit souhaité. Les défauts des plaquettes à motifs peuvent entraîner un dysfonctionnement des semi-conducteurs. Il est donc important de les détecter dès le début du processus de fabrication. Les systèmes OPWIE utilisent des techniques optiques pour imager la plaquette à motifs et identifier les défauts. Le type de système OPWIE le plus courant est le système à fond clair, qui utilise une source de lumière blanche pour éclairer la plaquette et une caméra pour capturer l'image. D'autres types de systèmes OPWIE incluent les systèmes à fond noir, qui utilisent une source d'éclairage à fond noir pour améliorer le contraste des défauts, et les systèmes à contraste de phase, qui utilisent une source d'éclairage à contraste de phase pour améliorer la résolution de l'image.

IDENTIFIANT : IL_1167 | Langues : En/Jp/Fr/De | Éditeur : IL | Format :