光学式パターンウェーハ検査装置 (OPWIE) 市場規模 2023 ~ 2032 年
光学式パターン化ウェーハ検査装置 (OPWIE) は、半導体製造プロセスでパターン化されたウェーハの欠陥を検出するために使用される検査装置の一種です。パターン付きウェーハは、所望の回路パターンを作成するために処理されたウェーハです。パターン付きウェーハの欠陥は半導体の誤動作につながる可能性があるため、製造プロセスの早い段階で欠陥を検出することが重要です。 OPWIE システムは光学技術を使用してパターン化されたウェーハを画像化し、欠陥を特定します。最も一般的なタイプの OPWIE システムは明視野システムで、白色光源を使用してウェーハを照明し、カメラを使用して画像をキャプチャします。他のタイプの OPWIE システムには、暗視野照明源を使用して欠陥のコントラストを高める暗視野システムや、位相コントラスト照明源を使用して画像の解像度を向上させる位相コントラスト システムがあります。
ID : IL_1167 | 言語: 英/日/仏/独 | 出版社 : イリノイ州 | フォーマット :