フォトマスク市場規模 2023年～2032年
フォトマスクは、リソグラフィープロセスで使用される不透明なプレートです。不透明な表面の開口部または穴は、光が通過できるように配置されており、パターンがフォトマスクから紙などの別の材料に転写されます。フォトマスクは半導体の製造でよく使用され、集積回路のイメージと配置を回路基板に正確に転写します。このプロセスはフォトリソグラフィーとして知られています。
ID : IL_1029 | 言語: 英/日/仏/独 | 出版社 : イリノイ州 |
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