Markt omvang optische patroonwafer inspectie apparatuur (OPWIE) 2023 tot 2032

Optical Patterned Wafer Inspection Equipment (OPWIE) is een type inspectieapparatuur dat wordt gebruikt in het halfgeleiderproductieproces om defecten in gepatroneerde wafers te detecteren. Gepatroneerde wafers zijn wafers die zijn verwerkt om het gewenste circuitpatroon te creëren. Defecten in gepatroneerde wafers kunnen leiden tot defecte halfgeleiders, dus het is belangrijk om ze vroeg in het productieproces te detecteren. OPWIE-systemen gebruiken optische technieken om de gepatroneerde wafer te visualiseren en defecten te identificeren. Het meest voorkomende type OPWIE-systeem is het helderveldsysteem, dat een witte lichtbron gebruikt om de wafer te belichten en een camera om het beeld vast te leggen. Andere typen OPWIE-systemen zijn donkerveldsystemen, die een donkerveldverlichtingsbron gebruiken om het contrast van defecten te verbeteren, en fasecontrastsystemen, die een fasecontrastverlichtingsbron gebruiken om de resolutie van het beeld te verbeteren.

ID: IL_1167 | Talen: En/Jp/Fr/De | Uitgever: IL | Formaat: