Wielkość rynku urządzeń do czyszczenia płytek półprzewodnikowych w latach 2023–2032

Proces czyszczenia wafli polega na usuwaniu zanieczyszczeń chemicznych i cząsteczkowych bez zmiany lub uszkodzenia powierzchni wafli lub podłoża. Czyszczenie jest wykonywane w celu zapewnienia, że wafli nie dotyka szorstkość i korozja. Proces czyszczenia wafli jest zwykle wykonywany dwiema metodami: czyszczeniem wafli na mokro i czyszczeniem wafli na sucho. Czyszczenie na mokro obejmuje użycie rozpuszczalnika do czyszczenia powierzchni wafli, a zanieczyszczenia są usuwane bez tworzenia szorstkich powierzchni później. Metody czyszczenia wafli krzemowych na sucho są mniej szkodliwe dla środowiska, ponieważ potrzeba niewielu środków chemicznych. Ponadto duże wafle są lepiej przystosowane do procesu czyszczenia na sucho niż mniejsze.

Identyfikator: IL_1054 | Język: En/Jp/Fr/De | Wydawca: IL | Format :